平藤研究室

2024年

学会発表

  • ”低級アルキルアミン塩酸塩からなるクロロアルミネートイオン液体の特性比較“
    久保 高志、田中 暉大、池之上 卓己、三宅 正男、平藤 哲司
    表面技術協会 第 149 回大会, 工学院大学 八王子キャンパス, 2024.03.05, ポスター
  • ”塩化アルミニウム系無機イオン液体への臭化物添加の影響“
    大久保 歩、池之上 卓己、三宅 正男、平藤 哲司
    表面技術協会 第 149 回大会, 工学院大学 八王子キャンパス, 2024.03.06, 口頭

2023年

論文

  • Fabrication of epitaxial V2O3 thin films on Al2O3 substrates via mist chemical vapor deposition
    Hisato Nishii , Shintarou Iida , Akira Yamasaki , Takumi Ikenoue , Masao Miyake , Toshiya Doi , Tetsuji Hirato
    Journal of Crystal Growth 626 (2024) 127484
  • Fabrication of micron-sized three-dimensional porous Al from an Al–Zn monotectoid alloy via selective etching and Al passivation
    Masao Miyake, Yuya Tanaka, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato
    Journal of Materials Science, 2023, in press
  • Toward Tungsten Electrodeposition at Moderate Temperatures Below 100 °C Using Chloroaluminate Ionic Liquids
    Shota Higashino, Yoshikazu Takeuchi, Masao Miyake, Takuma Sakai, Takumi Ikenoue, Masakazu Tane, Tetsuji Hirato
    Journal of The Electrochemical Society, 2023, in press

学会発表

  • ”水系電解液からのAl電析の可能性の検証“
    Wu Jingda、池之上 卓己、三宅 正男、平藤 哲司
    第 25 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学ポートアイランドキャンパス, 2023.12.01, 口頭
  • ”Orientation control of VO2 thin films via topotactic oxidation“
    H. Nishii, H. Saito, T. Ikenoue, M. Miyake and T. Hirato
    42nd Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, Th2-2, October 12, 2023 (Poster)
  • ”Control of grain size and effect of PAN addition in MA3Bi2I9 films for X-ray detection“
    Y. Nakano, T. Ikenoue, M. Miyake, and T. Hirato
    42nd Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, Fr1-2, October 13, 2023 (Poster)
  • ”サファイア基板上エピタキシャル V2O3 薄膜のトポタクティック酸化による VO2 薄膜の方位制御“
    西井 飛智, 齋藤 輝, 池之上 卓己, 三宅 正男, 平藤 哲司
    第 84 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 熊本城ホール, 2023.09.20, ポスター
  • ”PAN 添加溶液を用いた高感度 MA3Bi2I9 膜の作製“
    中野佑宇唯, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 84 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 熊本城ホール, 2023.09.20, ポスター
  • ”エチルアミン塩酸塩–ジメチルアミン塩酸塩–AlCl3 電解液を用いたアルミニウムイオン電池の性能評価“
    久保高志, 山本龍雄, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    電気化学会第91回大会 , 九州大学, 2023.09.11, 口頭
  • ”Epitaxial Growth of β-Ga2O3 Films on MgO Substrate via Mist Chemical Vapor Deposition Method“
    Takumi Ikenoue1, 2, YongJin Cho2, Vladimir Protasenko2, Chandrashekhar Prakash Savant2, Bennett J Cromer2, Masao Miyake1, Tetsuji Hirato1, Michael Thompson2, Debdeep Jena2, Huili Grace Xing2
    1. Kyoto University, Kyoto, Japan., 2. Cornell University, Ithaca, NY, United States.
    The 6th U.S. Gallium Oxide Workshop, University at Buffalo, Buffalo, New York, August 14th, 2023, Poster
  • ”Epitaxial Growth of Lattice-Matched NiMgZnO Films on MgO Substrate via Mist Chemical Vapor Deposition“
    Takumi Ikenoue1, 2, Shintaro Iida1, YongJin Cho2, Vladimir Protasenko2, Bennett J Cromer2, Chandrashekhar Prakash Savant2, Masao Miyake1, Tetsuji Hirato1, Michael Thompson2, Debdeep Jena2, Huili Grace Xing2
    1. Kyoto University, Kyoto, Japan., 2. Cornell University, Ithaca, NY, United States.
    65th Electronic Materials Conference, University of California, Santa Barbara, California, June 28th, 2023, Poster
  • ”アルキルアミン塩酸塩/AlCl3 イオン液体を用いたアルミニウム空気電池“
    後藤晃毅, 山本龍雄, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    電気化学会第90回大会 , 東京工業大学, 2023.03.27, 口頭
  • “PEAI を含む溶液からの高抵抗 (CH3NH3)3Bi2I9 膜の成膜”
    川上未央子, 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 70 回 応用物理学会 春季学術講演会, 上智大学, 2023.03.17, ポスター
  • ”VO2安定領域でのトポタクティック酸化による単一配向VO2薄膜の作製“
    西井飛智, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 70 回 応用物理学会 春季学術講演会, 上智大学, 2023.03.16, ポスター
  • "非水溶媒浴を用いたアルミニウム電析とその応用"
    三宅正男
    資源・素材学会 2023年度 春季大会,千葉工業大学,2023.03.15,企画講演/招待講演
  • ”イソプロピルアミン塩酸塩–AlCl3イオン液体からのアルミニウム電析“
    田中暉大, 山本恭司, 山本龍雄, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    表面技術協会 第 146 回講演大会 , 千葉工業大学, 2023.03.07, 口頭

2022年

論文

  • Aluminum Barrel Plating on Steel Bolts Using Chloroaluminate Ionic Liquids
    Masao Miyake, Takashi Kita, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato
    Journal of The Electrochemical Society, 169, 072509, 2022.
    https://doi.org/10.1149/1945-7111/ac82ca.
  • Scalable Fabrication of Metal Halide Perovskites for Direct X-Ray Flat-Panel Detectors: a Perspective
    Yuki Haruta, Mioko Kawakami, Yuui Nakano, Soumya Kundu1, Shinji Wada, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato, Makhsud I. Saidaminov1 (1 University of Victoria)
    Chemistry of Materials, 34, 12, 5323–5333
    https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.chemmater.2c00764.
  • Aluminum Electrodeposition in Dry Air Atmosphere: Comparative Study of an Acetamide–AlCl3 Deep Eutectic Solvent and a 1-Ethyl-3-Methylimidazolium Chloride–AlCl3 Ionic Liquid
    Masaki Yamagami, Shota Higashino, Takashi Yamamoto, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    Journal of The Electrochemical Society, 169, 062502, 2022.
    https://doi.org/10.1149/1945-7111/ac72c9.
  • Formation of uniquely oriented VO2 thin film by topotactic oxidation of V2O3 epitaxial film on R-plane Al2O3
    Yuya Matamura, Makoto Kimura, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    Crystal Growth & Design, in press Vol. 22, Issue 5, pp. 3190-3197 (2022)
    https://doi.org/10.1021/acs.cgd.2c00042.
  • Tungsten(II) Chloride Hydrates with High Solubility in Chloroaluminate Ionic Liquids for the Electrodeposition of Al–W Alloy Films
    Shota Higashino, Yoshikazu Takeuchi, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Masakazu Tane, Tetsuji Hirato
    Journal of Electroanalytical Chemistry, Volume 912, 1 May 2022, 116238
    https://doi.org/10.1016/j.jelechem.2022.116238.

学会発表

  • “Large-area fabrication of MA3Bi2I9 films via mist deposition method”
    Y. Nakano, M. Kawakami, Y. Haruta, T. Ikenoue, M. Miyake, and T. Hirato
    41st Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, Fr1-12, October 21, 2022 (Poster)
  • “The relationship between the composition and lattice constant of MgO-NiO-ZnO semiconductors”
    S. Iida, T. Ikenoue, M. Miyake, and T. Hirato
    41st Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, Fr1-11, October 21, 2022 (Poster)
  • “Fabrication of single oriented VO2 thin films via topotactic oxidation”
    H. Nishii, Y. Matamura, T. Ikenoue, M. Miyake, and T. Hirato
    41st Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, We1-5, October 19, 2022 (Poster)
  • “Preparation of MA3Bi2I9 Thick Films via Mist Deposition Method for X-Ray Detection”
    M. Kawakami, Y. Haruta, T. Ikenoue, M. Miyake, and T. Hirato
    41st Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, We1-6, October 19, 2022 (Poster)
  • "MgO 基板と格子整合する MgO-NiO-ZnO 混晶半導体"
    飯田真太郎, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 83 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 東北大学, 2022.09.21, 口頭
  • "X 線撮像に向けた (CH3NH3)3Bi2I9 膜の表面パッシベー ション処理による高抵抗化"
    川上未央子, 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 83 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 東北大学, 2022.09.21, ポスター
  • "ミストデポジション法による (CH3NH3)3Bi2I9 大面積膜の作製"
    中野佑宇唯, 川上未央子, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 83 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 東北大学, 2022.09.21, ポスター
  • "トポタクティック酸化を利用した単一配向 VO2 薄膜の作製"
    西井飛智, 股村雄也, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 83 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 東北大学, 2022.09.20, 口頭
  • "アルキルアミン塩酸塩/AlCl3 イオン液体を用いたアルミニウムイオン電池"
    山本龍雄,田中暉大,山本恭司,三宅正男,池之上卓己,平藤哲司
    2022年 電気化学秋季大会,神奈川大学みなとみらいキャンパス,2022.9.9
  • "アミド系溶媒およびイオン液体からのアルミニウム電析におよぼす酸素の影響"
    山本恭司,東野昭太,池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    2022年 電気化学秋季大会,神奈川大学みなとみらいキャンパス,2022.9.9
  • "アルキルアミン塩酸塩-AlCl3 イオン液体からのアルミニウム電析"
    田中暉大,山本恭司,山本龍雄,池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    表面技術協会 第146回講演大会, 埼玉工業大学, 2022. 9. 7, 口頭
  • "EMIC-AlCl3 イオン液体を⽤いた Al バレルめっきの被覆⼒に及ぼす AlCl3濃度の影響"
    三宅正男,北尭,池之上卓己,平藤哲司
    表面技術協会 第146回講演大会, 埼玉工業大学, 2022. 9. 6, 口頭
  • "Preparation of (CH3NH3)3Bi2I9 Thick Film via Mist Deposition Method for X-Ray Detection"
    Mioko Kawakami, Yuki Haruta, Shinji Wada, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    2022 MRS Spring Meeting & Exhibit, Honolulu, Hawaii, EQ05.06.03, May 10, 2022 (Poster).
  • "ミスト CVD 法を用いた NiO 成長における成長温度の影響"
    上野 暢路, 池之上 卓己, 三宅 正男, 平藤 哲司
    第69回応用物理学会春季学術講演会,2022.3.25,口頭

2021年

論文

  • Mist CVD of vanadium dioxide thin films with excellent thermochromic properties using a water-based precursor solution
    Yuya Matamura, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    Solar Energy Materials and Solar Cells, Volume 230, 15, September 2021, 111287
    https://doi.org/10.1016/j.solmat.2021.111287.
  • Columnar Grain Growth of Lead-Free Double Perovskite using Mist Deposition Method for Sensitive X-ray Detectors
    Yuki Haruta, Shinji Wada, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    Crystal Growth and Design, Vol. 21, Issue 7, pp. 4030-4037 (2021)
    https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.cgd.1c00331.

学会発表

  • "ベンズアミド-AlCl3浴からのAl電析に及ぼす浴組成の影響"
    山本恭司, 東野昭太, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第23回関西表面技術フォーラム, オンライン, 2021,11,25, 口頭
  • "塩化タングステン水和物を用いたアルミニウム–タングステン合金電析における水和水の影響"
    竹内芳州, 東野昭太, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司
    第 23 回関西表面技術フォーラム, オンライン, 2021.11.25, 口頭, 研究奨励賞
  • "Dissolution Behavior of Hydrated Tungsten Chlorides in Chloroaluminate Ionic Liquids and Its Application in Aluminum–Tungsten Alloy Electrodeposition"
    Yoshikazu Takeuchi, Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Tetusji Hirato
    240th ECS Meeting, Florida, October 10-14, 2021 (poster, online)
  • "Influence of Oxygen on Aluminum Electrodeposition from Acetamide–AlCl3 and 1-Ethyl-3-methylimidazolium Chloride–AlCl3 Baths"
    Masao Miyake, Masaki Yamagami, Shota Higashino, Tetsuji Hirato
    INTERFINISH2020, Nagoya, September 7, 2021 (Oral, Online)
  • "ミストデポジション法で作製した (CH3NH3)3Bi2I9 厚膜による X 線検出"
    川上未央子, 春田優貴, 和田愼史, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 82 回 応用物理学会 秋季学術講演会, オンライン, 2021.09.21, ポスター, 放射線分科会学生ポスター賞
  • "アルミニウム–タングステン合金電析のための塩化アルミニウム系イオン液体における塩化タングステン水和物の溶存状態の解明"
    竹内芳州, 東野昭太, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司
    2021年電気化学秋季大会, オンライン, 2021.9.9, 口頭
  • "乾燥空気中での尿素-AlCl3浴およびベンズアミド-AlCl3 浴からのアルミニウム電析"
    山本恭司, 東野昭太, 山上晶暉, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    表面技術協会 第144回講演大会, オンライン開催, 2021. 9. 17, 口頭
  • "ミスト CVD 法による高 Mg 組成 Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長"
    孫 芸華, 池之上 卓己, 三宅 正男, 平藤 哲司
    第68回応用物理学会春季学術講演会,オンライン,2021.3.18,口頭
  • "ミストデポジション法で作製した Cs2AgBiBr6 厚膜を用いた X 線検出"
    和田 愼史, 春田 優貴, 池之上 卓己, 三宅 正男, 平藤 哲司
    第68回応用物理学会春季学術講演会, オンライン, 2021.3.16, 口頭, 放射線分科会学生優秀講演賞
  • "スマートウィンドウに向けた二酸化バナジウム膜のミスト CVD 法による作製と光学特性評価"
    股村雄也, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第68回応用物理学会春季学術講演会, オンライン,2021.3.17, ポスター Poster Award 受賞
  • "r面サファイア基板上にミストCVD法で作製したVO2薄膜の表面構造解析に関する研究"
    前田 青輝1,中山 瑛太1,田畑 博史1,久保 理1,片山 光浩1,木村 信,股村 雄也,池之上 卓己 (1 大阪大学)
    第68回応用物理学会春季学術講演会,オンライン,2021.3.17,口頭
  • "乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析"
    三宅 正男,平田 瑞樹,岡本 弘晃,平藤 哲司
    表面技術協会 第 143 回講演大会,オンライン,2021.3.4,令和 3 年度論文賞受賞記念講演
  • "タングステン水和物塩および無水塩を添加したイオン液体からのアルミニウム – タングステン合金電析"
    竹内 芳州, 東野 昭太, 池之上 卓己,三宅 正男,平藤 哲司
    表面技術協会 第 143 回講演大会,オンライン,2021.3.4,ポスター, 学術奨励講演賞

2020年

論文

  • ≪解説≫ 有機溶媒からのめっき
    平藤 哲司, 三宅 正男
    表面技術 71(2020) 734 - 739.
  • One-Step Coating of Full-Coverage CsPbBr3 Thin Films via Mist Deposition for All-Inorganic Perovskite Solar Cells
    Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    ACS Applied Energy Materials, Vol. 3, Issue 12, pp. 11523-11528 (2020)
    https://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/acsaem.0c01985
  • Mist chemical vapor deposition of MoO2 thin films
    Yuya Matamura, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    Journal of Crystal Growth, 548,15 (2020) 125862
  • Iron(III) chloride and acetamide eutectic for the electrodeposition of iron and iron based alloys
    Shota Higashino,Andrew P. Abbott, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    Electrochimica Acta 351 (2020) 136414
  • Epitaxial Growth and Bandgap Control of Ni1-xMgxO Thin Film Grown by Mist Chemical Vapor Deposition Method
    Takumi Ikenoue, Satoshi Yoneya, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    MRS Advances, Vol. 5, Issue 31-32, pp. 1705-1712 (2020)
  • Fabrication and mechanical properties of tungsten carbide thin films via mist chemical vapor deposition
    Takumi Ikenoue, Takuji Yoshida, Masao Miyake, Ryuta Kasada, Tetsuji Hirato
    Journal of Alloys and Compounds, Vol. 829, 15 (2020) 154567
  • Fabrication of CsPbBr3 Thick Films by Using a Mist Deposition Method for Highly Sensitive X-ray Detection
    Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    MRS Advances, Vol. 5, Issue 8-9, pp.395-401 (2020)

学会発表

  • "イオン液体を用いた Al バレルめっき"
    北 尭, 池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    第 22 回関西表面技術フォーラム, オンライン開催, 2020.12.3, 口頭
  • "選択エッチング法による多孔質アルミニウム箔の作製"
    田中優也, 池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    2020 年度第 3 回関西電気化学研究会, オンライン開催, 2020.11.28, ポスター
  • "乾燥空気下のアセトアミド AcAm–AlCl3 深共晶溶媒と EMImCl–AlCl3 イオン液体からのアルミニウム電析"
    山上晶暉,東野昭太,池之上 卓己,三宅 正男,平藤 哲司
    2020 年度第 3 回関西電気化学研究会, オンライン開催, 2020.11.28, ポスター
  • “Eutectic Mixture of Iron(III) Chloride and Acetamide — Physicochemical Properties, Chemical Speciation, and Electrodeposition of Iron”
    Shota Higashino, Andrew Abbott, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato
    PRiME 2020, Honolulu, Hawaii, October 4–9, 2020 (Oral, Online)
  • “Measurement of dissolved oxygen concentrations of chloroaluminate ionic liquids in dry air”
    Masaki Yamagami, Mizuki Hirata, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    PRiME 2020, Honolulu, Hawaii, October 4–9, 2020 (Poster, Online)
  • "ミストデポジション法を用いた Cs2AgBiBr6 膜の作製"
    和田愼史, 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    第 81 回 応用物理学会 秋季学術講演会, オンライン開催, 10p-Z14-4, 2020.9.10, 口頭講演

2019年

論文

  • Monitoring of SPS Concentration by the Ring Current Using a Rotating Ring-Disk Electrode with Dissolving Disk Copper to Refresh a Void Free Solution
    Anh Van Nhat Tran, Ha Van Hoang, Tetsuji Hirato and Kazuo Kondo
    J. Electrochem. Soc., vol. 166(2019) D742-D746.
  • “Bottom-Up TSV Filling Using Sulfonated Diallyl Dimethyl Ammonium Bromide Copolymer as a Leveler”
    V. Q. Dinh, V. H. Hoang, K. Kondo, T. Hirato
    J. Electrochem. Soc., vol. 166, no. 12, (2019) D505-D507.
  • Formation of a photocatalytic WO3 surface layer on electrodeposited Al–W alloy coatings by selective dissolution and heat treatment
    Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato
    Scientific Reports, 9 (2019) 16008.
  • 銅電解アノードスライムからの高濃度塩酸および過酸化水素を用いた金の選択浸出
    三宅正男,石井俊匡,山上慶,平藤哲司
    Journal of MMIJ, 135 (2019) 109-115.
  • 乾燥空気中でのジメチルスルホン浴を用いたアルミニウム電析
    三宅正男,平田瑞樹,岡本弘晃,平藤哲司
    表面技術,70 (2019) 523-527, 令和 3 年度論文賞
  • Fabrication of (101)-oriented CsPbBr3 thick films with high carrier mobility using a mist deposition method
    Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    Applied physics express, 12 (2019) 085505
  • Epitaxial growth of undoped and Li-doped NiO thin films on α-Al2O3 substrates by mist chemical vapor deposition
    Takumi Ikenoue, Junki Inoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    Journal of crystal growth, 507 (2019) 379-383
  • Hole mobility improvement in Cu2O thin films prepared by the mist CVD method
    Takumi Ikenoue, Toshikazu Kawai, Ryo Wakashima, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    Applied Physics Express, 12 (2019) 055509.
  • "組成変調型積層 Co-Ni 合金めっきの機械的特性に及ぼす積層構造の影響"
    石田 幸平,長瀧 敬行,中出 卓男,森河 務,三宅 正男,平藤 哲司
    鉄と鋼,105(4), 2019, 426-432.
  • Effect of laminated structure on mechanical properties of composition-modulated Co-Ni laminated plating
    Kohei Ishida, Takayuki Nagataki, Takuo Nakade, Tsutomu Morikawa, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
    ISIJ International, 59 (2019), 59 (2019) 2294-2301.

学会発表

  • Sulfonated diallyl dimethyl ammonium bromide copolymer as a leveler for high-speed copper TSV filling
    Van Quy Dinh, Kazuo Kondo, and Tetsuji Hirato
    第 21 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2019.11.22, 口頭
  • Reduction of Copper TSV Pumping
    Dinh Van Quy, Kazuo Kondo, and Tetsuji Hirato
    IEEE 2019 International 3D Systems Integration Conference, Sendai, Japan, October 8 - 10, 2019 (Poster)
  • 滝野天琴、池之上卓己、三宅正男、平藤哲司
    "ミスト CVD 法による MgO 基板上への NiO 薄膜のエピタキシャル成長"
    日本鉄鋼協会・日本金属学会関西支部鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会令和元年度合同講演会,兵庫県立大学,2019.12.13,ポスター
  • 市田智士,池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    "溶液成長法による CsPbBr3 膜成長における基板温度の影響"
    日本鉄鋼協会・日本金属学会関西支部鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会令和元年度合同講演会,兵庫県立大学,2019.12.13,ポスター
  • Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Fabrication of Cesium Lead Bromide Thick Films with Closely-Packed Columnar Crystals and High Carrier Mobility by Using a Mist Deposition Method"
    2019 Materials Research Symposium Fall Meeting, Boston, Massachusetts, EN09.06.09, December 3, 2019 (Poster).
  • Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Epitaxial Growth and Band-Gap Control of Ni1-xMgxO Thin Film by Using Mist CVD Method"
    2019 Materials Research Symposium Fall Meeting, Boston, Massachusetts, FF05.06.13, December 3, 2019 (Poster).
  • 山上晶暉,平田瑞樹,三宅正男,池之上卓己,平藤哲司
    "乾燥空気中でのイオン液体からの平滑アルミニウム電析"
    第 21 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2019.11.21, 口頭講演, 優秀講演賞
  • Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Successive Formation of Metal Oxide and Cesium Lead Halide Perovskites Thin Films Using a Mist Deposition Method for All-Inorganic Perovskite Solar Cells"
    The 9th Asis-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, OIST, Okinawa, Japan, ThP-OD-19, November 14, 2019 (Poster).
  • Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Carrier density control of epitaxial NiO thin films grown using mist CVD method"
    The 9th Asis-Pacific Workshop on Widegap Semiconductors, OIST, Okinawa, Japan, ThP-GR-17, November 14, 2019 (Poster).
  • Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "All-inorganic perovskite thick film formed by using mist deposition method and its X-ray detection properties"
    38th Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, Fr2-8, October 11, 2019 (Poster).
  • Yuya Matamura, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Effect of temperature on the preparation of MoO2 thin films by a mist CVD method"
    38th Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, We2-11, October 9, 2019 (Poster).
  • Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Bandgap control of epitaxial Ni1-xMgxO thin film by using mist chemical vapor deposition method"
    38th Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, We2-9, October 9, 2019 (Poster).
  • Takumi Ikenoue, Toshikazu Kawai, Ryo Wakashima, Junki Inoue, Satoshi Yoneya, Masao Miyake and Tetsuji Hirato
    “Growth and characterization of p-type oxide semiconductor thin films by using mist CVD method”
    20th International Union of Materials Research Societies-International Conference in Asia, Perth Australia, 24th September 2019, (Invited).
  • 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミストデポジション法で作製した CsPbBr3 厚膜とその放射線検出特性"
    第 80 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 北海道大学, 21p-C213-3, 2019.9.21, 口頭講演
  • 股村雄也, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による MoO2 薄膜の作製と電気特性の評価"
    第 80 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 北海道大学, 20p-C310-4, 2019.9.21, 口頭講演
  • Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, and Tetsuji Hirato
    “Electrodeposition of Al–W Alloy Films Using W(II) Salts Synthesized Using Different Methods”,
    236th ECS Meeting, Atlanta, Georgia, October 15, 2019 (Oral)
  • 三宅正男,平田瑞樹,池之上卓己,平藤哲司
    "乾燥空気中でのクロロアルミネート系イオン液体を用いたアルミニウム電析"
    表面技術協会 第 139 回講演大会,神奈川大学,2019.3.19,口頭
  • 股村雄也,池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    "ミスト CVD 法による二酸化モリブデンのエピタキシャル成長"
    表面技術協会 第 139 回講演大会,神奈川大学,2019.3.18,ポスター
  • 米谷怜, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による c面 Al2O3 基板への Ni1-xMgxO 薄膜のエピタキシャル成長とバンドギャップ制御"
    第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会, 東京工業大学大岡山キャンパス, 12a-PA3-6, 2019.3.12, ポスター
  • 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミストデポジション法による CsPbBr3 厚膜の作製"
    第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会, 東京工業大学大岡山キャンパス, 11p-S622-6, 2019.3.11, 口頭講演
  • 木村信, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長"
    第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会, 東京工業大学大岡山キャンパス, 9p-PA1-26, 2019.3.9, ポスター

2018年

論文

  • Thermal Stress Reduction of Copper Through Silicon Via (TSV) with Annealing
    V. Q. Dinh, V. H. Hoang, K. Kondo, T. Hirato
    ECS Trans., vol. 86, no. 8 (2018) 17-21
  • Reduction of Thermal Stress in Copper TSV due to Annealing by Low TEC Copper
    V. Q. Dinh, V. H. Hoang, K. Kondo, T. Hirato
    ECS J. Solid State Sci. Technol., vol. 7, no. 11 (2018) 689-692
  • "組成変調型積層 Co-Ni 合金めっきの製鋼用連続鋳造鋳型への適用"
    石田 幸平,長瀧 敬行,中出 卓男,森河 務,三宅 正男,平藤 哲司
    表面技術, 69 (2018) 458-463.    
  • "Fe-W 合金めっきの電析挙動と鉄族金属電極への金属タングステン析出"
    石田 幸平,中出 卓男,森河 務,三宅 正男,平藤 哲司
    表面技術,69 (2018) 533-535.
  • "Growth and electrical properties of epitaxial ZnO films prepared by chemical bath deposition using a flow reactor"
    Masao Miyake, Ken Yamamoto, Takumi Ikenoue, and Tetsuji Hirato
    Materials Transactions, 59 (2018), 1761-1766.
  • "Electrodeposition of Aluminum-Tungsten Alloy Films Using EMIC-AlCl3-W6Cl12 Ionic Liquids of Different Compositions"
    Shota Higashino, Masao Miyake, Hisashi Fujii, Ayumu Takahashi, Ryuta Kasada, and Tetsuji Hirato
    Materials Transactions, 59 (2018) 944-949.

学会発表

  • Reduction of TSV thermal stress by low TCE electrolyte
    Van Quy Dinh, Kazuo Kondo, and Tetsuji Hirato
    第 20 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2018.11.22, 口頭
  • Reduction of stress due to annealing of copper TSV by the low TCE copper
    Van Quy Dinh, Kazuo Kondo, and Tetsuji Hirato
    表面技術協会 第 137回講演大会,芝浦工業大学,2018.3.12,口頭
  • Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, Tetsuji Hirato
    "Formation of a photocatalytic WO3 layer on electrodeposited Al-W alloy films by selective leaching and heat treatment"
    Joint International Symposium on Energy Science between Kyoto University and Indian Institute of Science,
    Indian Institute of Science, Bangalore, India, December 3, 2018 (Oral)
  • 股村雄也, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による MoO2 薄膜成長"
    第 20 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2018.11.22, 口頭, 研究奨励賞
  • Yuki Haruta, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Growth of dense CsPbBr3 thin films by mist deposition method for all-inorganic perovskite solar cells"
    37th Electronic Materials Symposium, Shiga, Japan, Th1-17, October 11, 2018 (Poster).
  • Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Growth and conductivity control of epitaxial Li-doped NiO thin film by mist chemical vapor deposition method"
    37th Electronic Materials Symposium, Shiga, Japan, We2-19, October 10, 2018 (Poster).
  • V Quy Dinh, Kazuo Kondo and Tetsuji Hirato
    Reduction of Thermal Stress in Copper TSV due to Annealing by Low TEC Copper
    AiMES 2018 (ECS and SMEQ Joint international Meeting), Cancun, Mexuco, September 30-October 4, 2018(Oral).
    (Student Oral Presentation Award)
  • 春田優貴, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミストデポジション法を用いた全無機型ペロブスカイト太陽電池の作製"
    第 79 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 名古屋国際会議場, 21a-432-4, 2018.9.21,口頭講演
  • 東野 昭太,三宅 正男,池之上 卓己,平藤 哲司
    電析アルミニウム-タングステン合金膜の表面脱合金による光触媒層の形成
    表面技術協会 第 138 回講演大会(中止),北海道科学大学,2018.9.14,口頭
  • 平田 瑞樹,三宅 正男,池之上 卓己,平藤 哲司
    乾燥空気中でのイオン液体からのアルミニウム電析
    表面技術協会 第 138 回講演大会(中止),北海道科学大学,2018.9.14,口頭
  • 石井 俊匡,三宅 正男,池之上 卓己,平藤 哲司
    銅電解アノードスライムの湿式塩化処理における金の浸出挙動
    資源・素材 2018(福岡),福岡工業大学,2018.9.12,口頭
  • Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Epitaxial growth of NiO thin films on alpha-Al2O3 substrates by using mist CVD method"
    19th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy, Nara, Japan, P2-42, June 7, 2018 (Poster).
  • Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, and Tetsuji Hirato
    "Electrodeposition of Al–W Alloys and Surface Modification by Anodization"
    22nd Topical Meeting of the International Society of Electrochemistry, Tokyo, Japan, April 17, 2018 (Oral).
  • 平藤哲司
    ”非水溶媒を用いる電気めっき”
    日本金属学会 第162回講演大会、千葉工業大学新習志野キャンパス、2018.3.20,基調講演
  • 池之上 卓己,三宅 正男,平藤 哲司
    ”ミスト CVD 法によるエピタキシャル NiO 薄膜の成長と導電性制御”
    第 65 回応用物理学会春季学術講演会, 早稲田大学, 2018.3.18, 口頭
  • 石田幸平、長瀧敬行、中出卓男、三宅正男、平藤哲司
    ”組成変調型Co-Ni合金めっきの積層構造が及ぼす物性への影響”
    表面技術協会 第137回講演大会, 芝浦工業大学, 2018.3.13, 口頭
  • Van Quy Dinh,近藤和夫、平藤哲司
    "Reduction of stress due to annealing of copper TSV by the low TCE copper"
    表面技術協会 第137回講演大会, 芝浦工業大学, 2018.3.12, 口頭
  • Anh Van Nhat Tran, 近藤和夫、平藤哲司
    "Monitoring of SPS concentration in copper electroplating bath by cyclic voltammetry stripping using a rotating ring-disk electrode"
    表面技術協会 第137回講演大会, 芝浦工業大学, 2018.3.12, 口頭

表彰

  • 石田 幸平
    厚生労働省 平成30年度 「卓越した技能者 (現代の名工) 」

2017年

論文

  • Low-temperature hydrothermal synthesis of colloidal crystal templated nanostructured single-crystalline ZnO
    Masao Miyake, Makoto Suginohara, Naoto Narahara, Tetsuji Hirato, and Paul V. Braun
    Chemistry of Materials, 29 (2017) 9734-9741.
  • Electrodeposition and Anodization of Al-TiO2 Composite Coatings for Enhanced Photocatalytic Activity
    Masao Miyake, Ayumu Takahashi, Tetsuji Hirato
    International Journal of Electrochemical Science, 12 (2017) 2344-2352.
  • Electrodeposition of Al-W alloy films in a 1-ethyl-3-methyl-imidazolium chloride-AlCl3 ionic liquid containing W6Cl12
    Shota Higashino, Masao Miyake, Hisashi Fujii, Ayumu Takahashi, Tetuji Hirato
    Journal of The Electrochemical Society, 164 (4) D120-D125 (2017).
  • Annealing to achieve lower resistivity in Ga-doped ZnO epitaxial films grown from low-temperature aqueous solution
    Masao Miyake, Shota Inudo, Toshiya Doi, Tetsuji Hirato
    Materials Chemistry and Physics, 190 (2017) 146-152.
  • 「イオン交換膜-複数陽極システムを用いたFe-W合金めっきの耐熱特性および耐溶融亜鉛侵食性」
    石田 幸平,中出 卓男,森河 務,三宅 正男,平藤 哲司
    鉄と鋼 Tetsu-to-Hagané, 103 (5)209-214(2017) .
  • Evaluation of the hardness and Young's modulus of electrodeposited Al-W alloy films by nano-indentation
    Shota Higashino, Masao Miyake, Ayumu Takahashi, Yuya Matamura, Hisashi Fujii, Ryuta Kasada, Tetsuji Hirato
    Surface and Coatings Technology, 325 (2017) 346-351.

学会発表

  • 池之上 卓己
    ”液滴(ミスト)を用いた成膜技術とデバイス応用”
    日本鉄鋼協会製鋼部会 第4回産学交流会, 日新製鋼(株)呉製鉄所, 2017.12.4, 口頭
  • Yuki Haruta, Masaru Ui, Takumi Ikenoue, Masao Miyake and Tetsuji Hirato
    “Effect of substrate and growth temperature on fabrication of CH3NH3PbI3 thin films by the mist deposition Method”
    36th Electronic Materials Symposium, Shiga, November 9, 2017 (Poster).
  • Takumi Ikenoue, Toshikazu Kawai, Ryo Wakashima, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "High mobility p-type Cu2O thin films grown by mist chemical vapor deposition method"
    36th Electronic Materials Symposium, Shiga, Japan, We3-11, November 8, 2017 (Poster).
  • Shota Higashino, Masao Miyake, Takumi Ikenoue, and Tetsuji Hirato
    “Electrodeposition and Anodization of Al-W Alloy Films”
    232nd ECS Meeting National Harbor, MD, USA, October 3, 2017 (Poster).
  • Masao Miyake, Hiroaki Okamoto, Mizuki Hirata and Tetsuji Hirato
    “Electrodeposition of Al film from Dimethyl Sulfone-Aluminum Chloride Baths Under Dry Air”
    232nd ECS Meeting National Harbor, MD, USA, October 2, 2017 (Oral).
  • 吉田拓司、池之上卓己、三宅正男、平藤哲司
    ”ミスト CVD 法による炭化タングステン薄膜の作製と機械的特性の評価”
    表面技術協会 第136回講演大会, 金沢工業大学, 2017.9.15, 口頭
  • 若島涼,河合俊和,池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    "ミストCVD法によるCu2O薄膜の作製と評価"
    第 78 回 応用物理学会 秋季学術講演会,福岡国際会議場,2017.9.8,口頭講演
  • 池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    "ミストCVD法によるα-Al2O3基板上NiO成長の面方位依存性"
    第 78 回 応用物理学会 秋季学術講演会,福岡国際会議場,2017.9.6,口頭講演
  • Takuji Yoshida, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Ryuta Kasada, and Tetsuji Hirato
    "Evaluation of mechanical properties of W compound films"
    The 8th International Symposium of Advanced Science, Uji campus, Kyoto University, September 6, 2017 (Poster).
  • Takuji Yoshida, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Preparation of WC1-x thin films by mist chemical vapor deposition method"
    IUMRS-ICAM 2017, Yoshida campus, Kyoto University, August 30, 2017 (Poster).
  • 池之上卓己, 井上純輝, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミストCVD法によるα‐Al2O3基板へのNiO薄膜の成長"
    第 64 回応用物理学会春季学術講演会, パシフィコ横浜, 2017.3.14, 口頭

2016年

論文

  • A hydrometallurgical method of energy saving type for separation of rare earth elements from rare earth polishing powder wastes with middle fraction of ceria
    UM Namil, HIRATO Tetsuji
    JOURNAL OF RARE EARTHS, 34 (5) (2016), 536-542
  • Fe-W 合金めっきにおける Fe(Ⅲ) の影響とイオン交換膜-複数陽極システムを用いた連続めっき
    石田幸平, 森河務, 三宅正男, 平藤哲司
    表面技術, 67, 9, 489-493

学会発表

  • 吉田拓司, 上野仁希, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による炭化モリブデン薄膜の成膜と評価"
    第 18 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2016.11.17, ポスター, 優秀ポスター発表賞
  • Takumi Ikenoue, Yuichiro Watanabe, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Low Temperature Growth of Cu2ZnSnS4 Thin Films By Solution-Based Mist Chemical Vapor Deposition Method"
    PRiME 2016, Honolulu, Hawaii, USA, October 4, 2016 (Oral).
  • Shota Higashino, Ayumu Takahashi, Ryuta Kasada, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Mechanical Properties of Electrodeposited Al-W Alloy Films and the Effects of Subsequent Heat Treatment"
    PRiME 2016, Honolulu, Hawaii, USA, October 5, 2016 (Oral).
  • 宇井賢, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "超音波噴霧法による CH3NH3PbI3 薄膜の作製"
    第 77 回応用物理学会秋季学術講演会, 朱鷺メッセ, 2016.9.16, 口頭
  • Shota Higashino, Ayumu Takahashi, Masao Miyake, Ryuta Kasada, and Tetsuji Hirato
    “Nano-indentation study of electrodeposied Al-W alloy films”
    The 7th International Symposium of Advanced Energy Science, Yoshida Campus, Kyoto University, September 5-6, 2016 (Poster).
  • 石田幸平, 森河務, 中出卓男, 三宅正男, 平藤哲司
    イオン交換膜-複数陽極システムを用いた Fe-W 合金めっきの特性
    表面技術協会 第 134 回講演大会, 東北大学, 2016.9.2, 口頭
  • Masao Miyake, Ayumu Takahashi, Takumi Ikenoue, and Tetsuji Hirato
    "Fabrication of Photocatalytic Al-TiO2 Coatings By Composite Electrodeposition and Anodization"
    229th ECS Meeting San Diego, CA, USA, June 1, 2016 (Oral).
  • Shota Higashino, Ayumu Takahashi, Masao Miyake, Ryuta Kasada, and Tetsuji Hirato
    “Electrodeposition of Al-W Alloy Films from Ionic Liquid and Evaluation of Their Corrosion Resistance and Mechanical Properties”
    229th ECS Meeting San Diego, CA, USA, May 31, 2016 (Poster).
  • 平藤哲司
    "非水溶媒を用いるアルミニウム電気めっきとその応用"
    表面技術協会 第 133 回講演大会, 早稲田大学, 2016.3.23, 依頼講演
  • 池之上卓己, 上野仁希, 小森祥央, 掛谷一弘, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による準安定 hcp-Ni 薄膜の作製とその諸特性"
    表面技術協会 第 133 回講演大会, 早稲田大学, 2016.3.23, 口頭
  • 東野昭太, 高橋歩, 藤井久史, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "2 価のタングステンイオン源を添加したイオン液体からのアルミニウム-タングステン合金電析"
    表面技術協会 第 133 回講演大会, 早稲田大学, 2016.3.22, 口頭
  • 池之上卓己, 上野仁希, 小森祥央, 掛谷一弘, 三宅正男, 平藤哲司
    "hcp 構造を有する Ni 薄膜の成長と熱処理の影響"
    第 63 回応用物理学会春季学術講演会, 東京工業大学, 2016.3.22, ポスター
  • Takumi Ikenoue, Yuichiro Watanabe, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Fabrication of Cu2ZnSnS4 Thin Films from Cl--free solution by Mist CVD Method for Photovoltaic Applications"
    35th Electronic Materials Symposium, Shiga, July 6, 2016, (Poster).
  • 池之上卓己
    "ミストCVD法を用いた光吸収層用酸化物・硫化物の成長"
    文部科学省 ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細加工プラットフォーム 
    第2回広島大学・山口大学・香川大学・FAIS 合同シンポジウム, 山口大学, 2016.11.22, 口頭

2015年

論文

  • Recovery of Zinc from Used Alkali-Manganese Dry Cells
    Masakatsu Hasegawa, Ryo Ueyama, Yoshiaki Kashiwaya, Tetsuji Hirato
    Journal of Sustainable Metallurgy, 1 (2) (2015), 144-150
  • Electroplating of Al on Mg alloy in a dimethyl sulfone-aluminum chloride bath
    Masao Miyake, Hisashi Fujii, Tetsuji Hirato
    Surface and Coatings Technology, 277 (2015) 160-164.
  • Photocatalytic Properties of Silver Core/Titania Shell Nano-Wires Grown on a Glass Substrate Using a Glycothermal Process Assisted by a Photochemical Reaction
    Duck-Hyun Song and Tetsuji Hirato
    Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 15 (7) (2015), 5078-5082.
  • Fabrication of three-dimensional titania building blocks on glass substrate from mono-dispersed titanium glycolate spheres and their photocatalystic properties
    Duck-Hyun Song and Tetsuji Hirato
    Materials Transactions, 56(3) (2015), 348-352.
  • Glycothermal Growth of Silver Core/TiO2 Shell Nano-Wires on FTO Substrate
    Duck-Hyun Song and Tetsuji Hirato
    Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 15(1) (2015), 510-513.

学会発表

  • 山上慶, 三宅正男, 平藤哲司
    "銅アノードスライムの塩化浸出に及ぼす酸化還元電位の影響"
    資源・素材学会関西支部 第 12 回若手研究者・学生のための研究発表会, 2015.12.11, 口頭
  • 河合俊和, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "管状炉型ミスト CVD 法を用いて作製した Cu2O 薄膜の成長温度依存性と熱処理の効果"
    第 17 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2015.11.26, 口頭
  • 上野仁希, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による準安定 hcp 構造を有した Ni 薄膜の作製"
    第 17 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2015.11.26, ポスター
  • 渡辺勇一郎, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法を用いた CZTS 薄膜の作製における前駆体原料の検討"
    材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会 合同研究会, 大阪府立大学, 2015.12.7, ポスター
  • 形部聖, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司
    "DMSO2 溶媒における Al イオンの溶存状態の分子動力学計算による予測"
    材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会 合同研究会, 大阪府立大学, 2015.12.7, ポスター
  • 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による銅系材料の成膜"
    ナノテク研シンポジウム 2015, 高知工科大学, 2015.11.14, 特別講演    
  • 嵜村麻子, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴からの Al 電析に及ぼす複数の添加剤の同時添加の影響"
    表面技術協会 第 132 回講演大会, 信州大学, 2015.9.10, 口頭
  • 三宅正男, 犬童翔太, 土井俊哉, 平藤哲司
    "水溶液からエピタキシャル成長した Ga ドープ ZnO 透明導電膜の熱処理による低抵抗化"
    表面技術協会 第 132 回講演大会, 信州大学, 2015.9.10, 口頭
  • 池之上卓己, 渡辺勇一郎, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による塩素フリー原料からの Cu2ZnSnS4 薄膜の成長
    第 76 回応用物理学会春季学術講演会, 名古屋大学, 2015.9.15, 口頭
  • Ayumu Takahashi, Shota Higashino, Masao Miyake, Ryuta Kasada, Tetsuji Hirato
    "Evaluation of mechanical properties of electrodeposited Al-W films"
    The 6th International Symposium of Advanced Energy Science, Uji Campus, Kyoto University, September 1-3. 2015, (Poster)
  • 山上慶, 三宅正男, 平藤哲司
    "銅電解スライムの塩化浸出に及ぼす塩酸、過酸化水素およびスライム濃度の影響"
    資源・素材学会 平成27年度春季大会, 千葉工大, 2015.3.29, 口頭
  • 高橋歩, 三宅正男, 平藤哲司
    "TiO2 分散 Al めっき皮膜の作製とその陽極酸化処理"
    電気化学会第 82 回大会, 横浜国立大学, 2015.3.15, ポスター
  • 上野仁希, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による光透過性銅薄膜の作製"
    第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 東海大学, 2015.3.12, 口頭
  • 渡辺勇一郎, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による Cu2ZnSnS4 薄膜の作製と評価"
    第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 東海大学, 2015.3.12, 口頭
  • 鷲田一博, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司
    "ナノインプリントと干渉フォトリソグラフィを用いた三次元周期多孔構造体の作製"
    第 62 回応用物理学会春季学術講演会, 東海大学, 2015.3.11, ポスター
  • Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Fabrication of p-type Cu2O Thin Films by Mist Chemical Vapor Deposi-tion toward Photovoltaic Applications"
    34th Electronic Materials Symposium, Shiga, July 15, 2015, (Poster).
  • 池之上 卓己,三宅 正男,平藤 哲司
    "ミスト CVD 法による p 型 Cu2O 薄膜の作製における溶媒の検討"
    平成26年度日本材料学会半導体エレクトロニクス部門委員会第1回講演会, 広島大学, 2015.1.24, ポスター

2014年

論文

  • Preparation of low-resistivity Ga-doped ZnO epitaxial films from aqueous solution using flow reactor
    Masao Miyake, Hiroshi Fukui, Toshiya Doi, and Tetsuji Hirato
    Journal of The Electrochemical Society, 161 (2014) D725-D729
  • Electrodeposition of Aluminum from 1,3-Dimethyl-2-Imidazolidinone/AlCl3 baths
    Atsushi Endo, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    Electrochimica Acta, 137 (2014) 470-475.
  • ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす水分濃度の影響
    岡本弘晃, 三宅正男, 平藤哲司
    Journal of MMIJ, 130 (2014) 70-75.
  • Precipitation behavior of Ca(OH)2, Mg(OH)2, and Mn(OH)2 from CaCl2, MgCl2, and MnCl2 in NaOH-H2O solutions and study of lithium recovery from seawater via two-stage precipitation process
    Namil Um and Tetsuji Hirato
    Hydrometallurgy, 146 (2014) 142-148.
  • Specimen- and grain-size dependence of compression deformation behavior in nanocrystalline copper
    Norihiko L. Okamoto, Daisuke Kashioka, Tetsuji Hirato and Haruyuki Inui
    International Journal of Plasticity, 56 (2014) 173-183.
  • Hull cell tests for evaluating the effects of polyethylene amines as brighteners in the electrodeposition of aluminum from dimethylsulfone-AlCl3 baths
    Masao Miyake, Yuki Kubo and Tetsuji Hirato
    Electrochimica Acta, 120 (2014) 423-428.

解説

  • ジメチルスルホン浴を用いるアルミニウム複合めっき
    平藤哲司
    表面技術, 65 (2014) 73-76.

学会発表

  • 藤井久史, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司
    "低融点溶媒を用いた高耐食性 Al 合金電析"
    平成 26 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 京都大学, 2014.12.25, ポスター, 優秀発表賞
  • 酒巻聡, 三宅正男, 平藤哲司
    "水溶液プロセスにより作製した As 添加 ZnO 膜の電気的特性"
    表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2014.11.27, 口頭
  • 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "超音波噴霧法による Cu2O 薄膜の作製に及ぼす溶媒の影響"
    表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2014.11.27, ポスター
  • 楢原直人, 三宅正男, 平藤哲司
    "水溶液プロセスによる三次元周期多孔構造をもつエピタキシャル ZnO 膜の作製"
    表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2014.11.27, ポスター 優秀ポスター発表賞
  • 山田博文, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    "水溶液プロセスによる Nb ドープ TiO2 エピタキシャル薄膜の作製"
    表面技術協会 第 16 回関西表面技術フォーラム, 甲南大学, 2014.11.27, ポスター
  • 岡本弘晃, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす酸素の影響"
    日本金属学会 2014秋期講演大会, 名古屋大学, 2014.09.25, 口頭
  • 高橋歩, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴を用いた TiO2 分散 Al めっき皮膜の作製及びその光触媒能評価"
    表面技術協会 第 130 回講演大会, 京都大学, 2014.09.23, 口頭
  • 池之上卓己, 渡辺勇一郎, 三宅正男, 平藤哲司
    "超音波噴霧法による Cu2O および Cu2ZnSnS4 の成長"
    表面技術協会 第 130 回講演大会, 京都大学, 2014.09.23, 口頭
  • 池之上卓己, 渡辺勇一郎, 三宅正男, 平藤哲司
    "ミスト CVD 法による Cu2ZnSnS4 薄膜の作製とミスト硫化法の効果"
    第75回応用物理学会秋季学術講演会,北海道大学,2014.09.18,口頭
  • Takumi Ikenoue, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    "Fabrication of Cu2ZnSnS4 Thin Films by Mist Chemical Vapor Deposition for Photovoltaic Applications"
    33rd Electronic Materials Symposium, Shizuoka, July 10, 2014, (Poster).

2013年

論文

  • Dissolution Behavior of La2O3, Pr2O3, Nd2O3, CaO, and Al2O3 in Sulfuric acid Solutions and Study of Cerium Recovery from Rare Earth Polishing Powder Waste via Two-Stage Sulfuric Acid Leaching
    Namil Um and Tetsuji Hirato
    Materials Transactions, 54 (2013) 713-719.
  • Glycothermal Growth of Silver Core/TiO2 Shell Nano-Wires on FTO Substrate
    Duck-Hyun Song and Tetsuji Hirato
    Journal of Nanoscience and Nanotechnology, 15 (2015) 510-513.
  • Electrical properties of CuI films prepared by spin coating
    Shota Inudo, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    Physica Status Solidi (a), 210 (2013) 2395-2398.
  • Electrodeposition of bright Al coatings from dimethylsulfone-AlCl3 baths with the addition of tetraethylenepentamine
    Masao Miyake, Yuki Kubo, and Tetsuji Hirato
    Journal of the Surface Finishing Society of Japan (表面技術), 64 (2013) 364-367.

解説

  • 常温付近でのアルミニウム電析技術
    塩見卓, 三宅正男, 平藤哲司
    軽金属, 63 (2013) 234-242.

学会発表

  • 森川健二, 三宅正男, 宮地悟代, 宮崎健創, 平藤哲司
    "ナノインプリントを利用した三次元周期構造の作製"
    平成 25 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 関西大学, 2013.11.28, ポスター, 優秀発表賞
  • 犬童翔太, 三宅正男, 土井俊哉, 平藤哲司
    "水溶液プロセスにより作製した Ga 添加エピタキシャル ZnO 膜に及ぼす熱処理の影響"
    第 15 回関西表面技術フォーラム, 岡山大学, 2013.11.28, ポスター
  • 永田拓朗, 三宅正男, 平藤哲司
    "電析積層膜の熱処理による ZnTe 薄膜の作製"
    第 15 回関西表面技術フォーラム, 岡山大学, 2013.11.28, ポスター
  • Duck-hyun Song, and Tetsuji Hirato,
    "Photocatalytic Properties of Silver Core/Titania Shell Nano-Wires Grown on a Glass Substrate Using a Glycothermal Process Assisted by a Photochemical Reaction"
    International Conference on Nano Science and Nano Technology 2013, Chosun University, Korea, November 7-8, 2013 (Poster).
  • Duck-hyun Song, and Tetsuji Hirato,
    "Growth of Titanium Glycolate Micro Rods on Glass Substrate Using a Polyol Process"
    3rd International Conference on the Advancement of Materials and Nanotechnology 2013, Park Royal Penang Resort, Malaysia, November 19-22, 2013 (Oral).
  • 遠藤厚志, 三宅正男, 平藤哲司
    "低融点有機溶媒浴からのアルミニウム電析"
    表面技術協会 第 128 回講演大会, 福岡工業大学, 2013.09.24, 口頭, 優秀講演賞
  • 藤井久史, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴を用いたマグネシウム合金上へのアルミニウム電析"
    表面技術協会 第 128 回講演大会, 福岡工業大学, 2013.09.24, 口頭
  • 伊藤和紀, 赤坂一行, 三宅正男, 平藤哲司
    "酸性溶液を用いた化学浴析出法による ZnS 製膜"
    第 74 回応用物理学会学術講演会, 同志社大学, 2013.09.18, ポスター
  • 岡本弘晃, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴からのアルミニウム電析に及ぼす水分濃度の影響"
    資源・素材 2013 (札幌), 北海道大学, 2013.09.04, 口頭
  • 山田博文, 三宅正男, 平藤哲司
    "水溶液プロセスによる TiO2 エピタキシャル薄膜の作製"
    資源・素材 2013 (札幌), 北海道大学, 2013.09.04, 口頭
  • 渡邊健, 土井俊哉, 三宅正男, 平藤哲司
    "Nb ドープ SrTiO3 を中間層とした {100}<001> 集合組織 Cu テープ上への YBa2 Cu3 O7 -δ 薄膜の作製"
    第 60 回応用物理学会学術講演会, 神奈川工科大学, 2013.03.27, 口頭
  • 三宅正男, 福井宏史, 土井俊哉, 平藤哲司
    "水溶液プロセスによる Ga 添加 ZnO エピタキシャル膜の作製"
    第 60 回応用物理学会春季学術講演会, 神奈川工科大学, 2013.3.27, ポスター

2012年

論文

  • Precipitation of Cerium Sulfate Converted from Cerium Oxide in Sulfuric Acid Solutions and the Conversion Kinetics
    Namil Um and Tetsuji Hirato
    Materials Transactions, 53 (2012) 1986-1991.
  • Conversion kinetics of Cerium Oxide into Sodium Cerium Sulfate in Na2SO4-H2SO4-H2O Solutions
    Namil Um and Tetsuji Hirato
    Materials Transactions, 53 (2012) 1992-1996.
  • Iron aluminide coatings by electrodeposition of aluminum from an organic bath and subsequent annealing
    Masao Miyake, Hiroshi Motonami, and Tetsuji Hirato
    ISIJ international, 52 (2012) 2273.
  • Preparation of Polycrystalline CdTe Films by Annealing of Amorphous Films Electrodeposited from Ammoniacal Alkaline Baths
    Masao Miyake, Takashi Sugiura, and Tetsuji Hirato
    High Temperature Materials and Processes, 31 (2012) 553-557.
  • Electrodeposition of purified aluminum coatings from dimethylsulfone-AlCl3 electrolytes with trimethylamine hydrochloride
    Masao Miyake, Hiroshi Motonami, Suguru Shiomi, and Tetsuji Hirato
    Surface and Coatings Technology, 206 (2012) 4225-4229.
  • Preparation of Al-doped ZnO films by aqueous solution process using a continuous circulation reactor
    Masao Miyake, Hiroshi Fukui, Tetsuji Hirato
    Physica Status Solidi (a), 209 (2012) 945-948.
  • Electrodeposition of bright Al-Zr alloy coatings from dimethylsulfone-based baths
    Suguru Shiomi, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato
    Journal of the Electrochemical Society, 159 (2012) D225-D229.

学会発表

  • Duck-hyun Song, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato,
    "Preparation of Silver Core/TiO2 Shell Nano-Wires via Glycothermal Process Assisted by Photochemical Process"
    平成 24 年度 鉄鋼プロセス研究会・材料化学研究会 合同研究会, 大阪府吹田市, 大阪大学吹田キャンパス フロンティア研究棟, 2012.12.17, ポスター
  • 赤坂一行, 伊藤和紀, 三宅正男, 土井俊哉, 平藤哲司
    "フローリアクターを用いた化学浴析出法による高配向 CdS 薄膜の作製"
    第 14 回関西表面技術フォーラム, 京都大学宇治おうばくプラザ, 2012.11.30, 口頭, 優秀講演賞
  • 福井宏史, 三宅正男, 土井俊哉, 平藤哲司
    "水溶液プロセスによる不純物添加 ZnO エピタキシャル膜の作製"
    資源・素材学会関西支部 第 9 回若手研究者・学生のための研究発表会, 京都大学, 2012.11.27, 口頭, 優秀発表賞
  • Duck-hyun Song, and Tetsuji Hirato,
    "Glycothermal Growth of Silver Core/TiO2 Shell Nano-Wire Films on FTO Substrate"
    International Conference on Nano Science and Nano Technology, "ICNST 2012" Gwangju, Korea, November 8-9, 2012 (Poster).
  • 成田諭一郎, 土井俊哉, 三宅正男, 平藤哲司
    "Fe テープ上への酸化物中間層の 2 軸配向化の試み"
    第 86 回 2012 年度秋季低温工学・超電導学会研究発表会, いわて県民情報交流センター, 2012.11.08, 口頭
  • 常松裕史, 土井俊哉, 三宅正男, 平藤哲司
    "Al およびジュラルミンテープ上への MgB2 薄膜の作製とその超伝導特性"
    第 86 回 2012 年度秋季低温工学・超電導学会研究発表会, いわて県民情報交流センター, 2012.11.07, 口頭
  • 久保雄輝, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴からの光沢アルミニウム電析のハルセル試験"
    表面技術協会 第 126 回講演大会, 室蘭工業大学, 2012.09.27, 口頭
  • 山下瑛, 塩見卓, 三宅正男, 平藤哲司
    "硫酸ナトリウム粉末をテンプレートに用いたジメチルスルホン浴からの多孔質アルミニウムの電析"
    表面技術協会 第 126 回講演大会, 室蘭工業大学, 2012.09.27, 口頭
  • 三宅正男, 平藤哲司
    "湿式プロセスを用いたマクロポーラス材料の作製"
    資源・素材 2012 (秋田), 秋田大学, 2012.09.13, 口頭
  • 秋月直人, ○ 常松裕史, 土井俊哉, 三宅正男, 平藤哲司
    "表面粗さの異なる Al 基板上への MgB2 薄膜の作製"
    第 73 回応用物理学会学術講演会, 愛媛大学, 2012.09.13, 口頭
  • 渡邊健, 土井俊哉, 三宅正男, 平藤哲司
    "{100}〈001〉 集合組織 Cu テープ上への Nb ドープ SrTiO3 薄膜の作製"
    第 73 回応用物理学会学術講演会, 愛媛大学, 2012.09.13, ポスター
  • 成田諭一郎, 土井俊哉, 三宅正男, 平藤哲司
    "{110}〈001〉 集合組織鉄テープ上への 2 軸配向中間層作製の試み"
    第 73 回応用物理学会学術講演会, 愛媛大学, 2012.09.13, ポスター
  • Duck-hyun Song, and Tetsuji Hirato,
    "Synthesis of Silver Nanoparticles and Nanowires Using the Polyol Process"
    The 4th International Symposium of Kyoto University Global COE Program in Collaboration with the Joint Graduate School of Energy and Environment, King Monkut's University of Technology Thonburi, "Zero-Carbon Energy 2012" Bangkok, Thailand, May 22-23, 2012 (Poster).
  • 松本 尚人, 三宅正男, 平藤哲司
    "電析積層膜の熱処理による CdTe 薄膜の作製"
    平成 24 年度春季大会(資源素材学会), 東京大学本郷キャンパス, 2012.03.27, 口頭
  • 常松 裕史, 土井俊哉, 三宅正男, 平藤哲司 (京大); 一木洋太, 田中和英, 岡本和孝(日立)
    "表面粗さの異なる Al 合金基板上への MgB2 薄膜の作製"
    第 59 回応用物理学会, 早稲田大学早稲田キャンパス, 2012.03.16, 口頭

2011年

論文

  • Potentiostatic electrodeposition of Pt nanoparticles on carbon black
    Masao Miyake, Takeshi Ueda, and Tetsuji Hirato
    Journal of the Electrochemical Society, 158 (2011) D590-D593.
  • Fabrication of TiAl3 coating on TiAl-based alloy by Al electrodeposition from dimethylsulfone bath and subsequent annealing
    Masao Miyake, Seiya Tajikara, Tetsuji Hirato
    Surface and Coatings Technology, 205 (2011) 21-22.
  • TiAl3 Coating on Ti substrate by Al Electrodeposition from DMSO2 bath and Annealing
    Masao Miyake, Seiya Tajikara and Tetsuji Hirato
    High Temperature Materials and Processes, 30 (2011) 485-490.
  • Aluminide coatings fabricated on nickel by aluminium electrodeposition from DMSO2-based electrolyte and subsequent annealing
    Suguru Shiomi, Masao Miyake, Tetsuji Hirato and Akihiro Sato
    Materials Transactions, 52 (2011) 1216-1211.

学会発表

  • 成田諭一郎, 土井俊哉, 渡邊健, 三宅正男, 平藤哲司
    "圧延再結晶集合組織テープ上への酸化物中間層のエピタキシャル成長"
    平成 23 年度材料化学研究会・鉄鋼プロセス研究会合同研究会, 大阪大学吹田キャンパス, 2011.12.16, ポスター, 優秀発表賞
  • 松本尚人, 三宅正男, 平藤哲司
    "電析と熱処理による CdTe 薄膜の作製"
    資源・素材学会関西支部 第 8 回若手研究者・学生のための研究発表会, 京都大学楽友会館, 2011.12.12, 口頭, 優秀発表賞
  • 西尾峻一, 三宅正男, 平藤哲司
    "テンプレート電析法による多孔質アルミニウムの作製と孔径制御"
    第 13 回関西表面技術フォーラム, キャンパスプラザ京都, 2011.11.29, 口頭, 研究奨励賞
  • 福井宏史, 三宅正男, 平藤哲司
    "水溶液プロセスによるエピタキシャル ZnO 膜の電気的特性"
    第 13 回関西表面技術フォーラム, キャンパスプラザ京都, 2011.11.29, ポスター, 優秀ポスター発表賞
  • 常松 裕史, 土井俊哉, 三宅正男, 平藤哲司 (京大); 田中和英, 岡本和孝 (日立),
    "Al 合金基板上への MgB2 薄膜の作製"
    秋季低温工学・超電導学会 2011, 金沢歌劇座, 2011.11.10, 口頭
  • Hiroshi Motonami, Suguru Shiomi, Masao Miyake, and ○Tetsuji Hirato,
    “Electrodeposition of Purified Aluminum Coatings from AlCl3-dimethylsulfone Electrolyte with an Additive”,
    220th ECS Meeting Boston, MA, USA, October 13, 2011 (Oral).
  • Suguru Shiomi, Seiya Tajikara, Masao Miyake, and Tetsuji Hirato,
    “Formation of Aluminide Coatings by Al Electrodeposition from Dimethylsulfone-Based Electrolyte and Subsequent Annealing”,
    220th ECS Meeting Boston, MA, USA, October 10, 2011 (Poster).
  • Masao Miyake, Hiroshi Fukui, Tetsuji Hirato,
    "Preparation of Al-doped ZnO Films by Aqueous Solution Process"
    ICTF-15, 15th International Conference on Thin Films, Kyoto, November 9, 2011 (Oral).
  • 杉之原 真, 三宅正男, 平藤哲司
    "ルチル型 TiO2 からなる逆オパール・フォトニック結晶の電析"
    資源・素材学会 2011 (堺), 大阪府立大学, 2011.9.29, 口頭
  • 西尾峻一, 三宅正男, 平藤哲司
    "電析による三次元周期多孔質アルミニウムの作製"
    資源・素材学会 2011 (堺), 大阪府立大学, 2011.9.29, 口頭
  • 内田晋右, 三宅正男, 平藤哲司
    "逆オパール構造をもつ酸化亜鉛膜の化学浴析出法による作製"
    資源・素材学会 2011 (堺), 大阪府立大学, 2011.9.26, ポスター
  • 平藤哲司, 三宅正男
    "湿式法で作る CdTe 太陽電池"
    資源・素材学会 2011 (堺), 大阪府立大学, 2011.9.26, 口頭
  • 久保雄輝, 三宅正男, 平藤哲司
    "エチレンアミン添加ジメチルスルホン浴からの光沢アルミニウム電析"
    表面技術協会 第 124 回講演大会, 名古屋大学東山キャンパス, 2011.9.21, 口頭
  • 塩見 卓, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン溶液を用いる Al-Zr 合金電析"
    表面技術協会 第 124 回講演大会, 名古屋大学東山キャンパス, 2011.9.21, 口頭
  • 元波 洸, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴からのアルミニウムめっきを用いる新しい鋼材のアルミナイズ処理法の開発"
    日本鉄鋼協会 第 162 回秋季講演大会, 大阪大学, 2011.9.20, ポスター
  • 福井宏史, 三宅正男, 平藤哲司
    "連続循環反応装置を用いた水溶液プロセスによる Al-doped ZnO 薄膜の作製"
    資源素材学会平成 23 年度春季大会 (中止), 東京大学本郷キャンパス, 2011.3.29
  • 嚴 男一, 三宅正男, 平藤哲司
    "酸化セリウムの硫酸中の溶解速度"
    資源素材学会平成 23 年度春季大会 (中止), 東京大学本郷キャンパス, 2011.3.29

2010年

学会発表

  • 田力誠也, 三宅正男, 平藤哲司
    "Al電析と熱処理を用いるTiAlの表面処理"
    平成 22 年度第 2 回鉄鋼プロセス研究会・第 3 回材料化学研究会 合同研究会, 京都大学, 2010.12.17, ポスター, 優秀発表賞
  • 植田 毅, 三宅正男, 平藤哲司
    "平成 22 年度第 2 回鉄鋼プロセス研究会・第 3 回材料化学研究会 合同研究会"
    京都大学, 2010.12.17, ポスター
  • 田力誠也, 三宅正男, 平藤哲司
    "第 12 回関西表面技術フォーラム"
    京都大学 宇治キャンパス, 2010.12.2, ポスター
  • 塩見 卓, 三宅 正男, 平藤 哲司
    "Al 電析を用いるアルミナイドコーティングの作製"
    資源・素材学会関西支部 平成 22 年度「若手研究者・学生のための研究発表会」, 大阪府立大学中百舌鳥キャンパス, 2010.11.29, 口頭
  • 植田 毅, 三宅正男, 平藤哲司
    "電解法による炭素担持白金触媒の作製と添加剤の影響"
    金属学会 2010 年秋期 (第 147 回) 大会, 北海道大学, 2010.9.26, 口頭
  • 杉浦 崇, 松本尚人, 三宅正男, 平藤哲司
    "塩基性浴を用いる CdTe 電析と熱処理による結晶粒成長"
    金属学会 2010 年秋期 (第 147 回) 大会, 北海道大学, 2010.9.25, ポスター
  • 田力誠也, 三宅正男, 平藤哲司
    "Al 電解析出を用いた Ti の表面処理"
    金属学会 2010 年秋期 (第147回) 大会, 北海道大学, 2010.9.25, ポスター
  • 塩見 卓, 三宅 正男, 平藤 哲司, 佐藤 彰洋
    "有機溶媒からのAl電析と熱処理を組み合わせた耐酸化表面処理"
    金属学会 2010年秋期 (第 147 回) 大会, 北海道大学, 2010.9.25, 口頭
  • 元波 洸, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴からの Al 電析における添加剤の影響"
    表面技術協会第 122 回講演大会, 東北大学, 2010.9.7, 口頭
  • 西尾 峻一, 三宅正男, 平藤哲司
    "ジメチルスルホン浴からの Al-Zn-Mn 合金電析"
    表面技術協会第 122 回講演大会, 東北大学, 2010.9.7, 口頭