業績

2025

論文

• Chasing Schottky–Mott: Metal-first non-alloyed contacts to β-Ga₂O₃ for interface quality and minimal surface modification
  Kathleen T. Smith*, Cameron A. Gorsak*, Joshua T. Buontempo*, Bennett J. Cromer*, Takumi Ikenoue, Hemant Gulupalli*, Michael O. Thompson*, Debdeep Jena*, Hari P. Nair*, and Huili Grace Xing*
  J. Appl. Phys. 136, 215302 (2024)
  (* Cornell University)
• “Low-cost ionic liquid electrolytes based on low-molecular-weight primary and secondary alkylamine hydrochlorides for rechargeable Al batteries”
  Takashi Kubo, Tatsuo Yamamoto, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
  Journal of Energy Storage, 2024, 99, 113332
• “Optimal oxidation conditions using water vapor for the topotactic formation of high-quality vanadium dioxide films from vanadium sesquioxide epitaxial films”
  Hisato Nishii, Takumi Ikenoue, Masao Miyake, Tetsuji Hirato
  Crystal Growth & Design, 2024, 24, 5733-5739
• “Fabrication of epitaxial V₂O₃ thin films on Al₂O₃ substrates via mist chemical vapor deposition”
  Hisato Nishii , Shintarou Iida , Akira Yamasaki , Takumi Ikenoue , Masao Miyake , Toshiya Doi , Tetsuji Hirato
  Journal of Crystal Growth, 626 (2024) 127484

学会発表

• “Epitaxial growth of MgO-NiO-ZnO films lattice-matched to MgO substrate”
  S. Iida, T. Ikenoue, and M. Miyake
  43rd Electronic Materials Symposium, Nara, Japan, We2-5, 2024.10.2, ポスター
• “ミスト CVD 法によるエピタキシャル VO2 薄膜の作製”
  森永 亞郎, 池之上 卓己, 三宅 正男
  第 85 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 朱鷺メッセ, 2024.09.20, 口頭
• ”ミストCVD法を用いたLiGa₅O₈薄膜のエピタキシャル成長”
  池之上 卓己、堀内 亮、三宅 正男
  第 85 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 朱鷺メッセ, 2024.09.20, 口頭
• ”MgO 基板と格子整合したエピタキシャル MgO-NiO-ZnO 膜の作製”
  飯田　真太郎、池之上　卓己、三宅　正男
  第 85 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 朱鷺メッセ, 2024.09.18, 口頭 
• “電析法による周期構造を有するBiI₃膜の作製”
  鈴木 直道，池之上 卓己，三宅 正男
  第 85 回 応用物理学会 秋季学術講演会, 朱鷺メッセ, 2024.09.18, 口頭
• ”塩化アルミニウム系無機イオン液体への臭化物添加の影響“
  大久保　歩、池之上 卓己、三宅 正男、平藤 哲司
  表面技術協会　第 149 回大会, 工学院大学　八王子キャンパス, 2024.03.06, 口頭
• ”低級アルキルアミン塩酸塩からなるクロロアルミネートイオン液体の特性比較“
  久保　高志、田中　暉大、池之上 卓己、三宅 正男、平藤 哲司
  表面技術協会　第 149 回大会, 工学院大学　八王子キャンパス, 2024.03.05, ポスター