コンテンツへ移動
材料プロセス科学分野 三宅研究室

京都大学 エネルギー科学研究科 エネルギー応用科学専攻

  • TOP
  • 研究内容
  • 論文概要
  • 業績
  • メンバー
  • 進路
  • お知らせ
  • アクセス
  1. Home
  2. 論文の概要

論文の概要

Aluminum Barrel Plating on Steel Bolts Using Chloroaluminate Ionic Liquids
2024/05/20
論文の概要

Aluminum Barrel Plating on Steel Bolts Using Chloroaluminate Ionic Liquids

イオン液体を用いた Al 電析は、耐食性めっきをはじめとする様々な潜在的用途のために広範に研究されている。Al 電気めっきを大量の小型部品に対して工業的に行う…

Scalable Fabrication of Metal Halide Perovskites for Direct X-ray Flat-Panel Detectors: A Perspective
2024/05/20
論文の概要

Scalable Fabrication of Metal Halide Perovskites for Direct X-ray Flat-Panel Detectors: A Perspective

ハロゲン化物ペロブスカイト材料は、高い X 線吸収能と優れた電荷キャリア輸送性を持つことから、X 線直接検出器としての応用が有望視されている。これまで、単一ピ…

Aluminum Electrodeposition in Dry Air Atmosphere: Comparative Study of an Acetamide–AlCl3 Deep Eutectic Solvent and a 1-Ethyl-3-Methylimidazolium Chloride–AlCl3 Ionic Liquid
2024/05/20
論文の概要

Aluminum Electrodeposition in Dry Air Atmosphere: Comparative Study of an Acetamide–AlCl3 Deep Eutectic Solvent and a 1-Ethyl-3-Methylimidazolium Chloride–AlCl3 Ionic Liquid

イオン液体または深共晶溶媒を用いた Al 電析が、めっき用途で大きな関心を集めている。Al 電析は、通常、窒素またはアルゴンで満たされたグローブボックス内で行…

Formation of uniquely oriented VO2 thin film by topotactic oxidation of V2O3 epitaxial film on R-plane Al2O3
2024/05/20
論文の概要

Formation of uniquely oriented VO2 thin film by topotactic oxidation of V2O3 epitaxial film on R-plane Al2O3

高配向の VO2 膜は、室温付近(約67℃)で金属絶縁体転移(MIT)を起こすことから、次世代の電子・光デバイス材料として有望視されている。高配向 VO2 膜…

Tungsten(II) Chloride Hydrates with High Solubility in Chloroaluminate Ionic Liquids for the Electrodeposition of Al–W Alloy Films
2024/05/20
論文の概要

Tungsten(II) Chloride Hydrates with High Solubility in Chloroaluminate Ionic Liquids for the Electrodeposition of Al–W Alloy Films

1-エチル-3-メチルイミダゾリウムクロリド(EMIC)-AlCl3 に代表されるクロロアルミネート系イオン液体を用いた Al 合金の電析が、表面処理技術とし…

1 2

© 2025 材料プロセス科学分野 三宅研究室

yStandard Theme by yosiakatsuki Powered by WordPress